디자인 분석 또는 트레이스 작업을 위하여 현재 뷰포트
로 배경 이미지를 배치하고 조작합니다.
단계:
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옵션을 클릭합니다.
배경 비트맵은 언제나 구성평면의 X축에 대하여 정렬되어 있습니다. 구성평면에 대하여 비트맵을 회전시키려면 비트맵을 비트맵 편집 프로그램에서 열어서 그 안에서 회전시키거나, 회전시킨 구성평면을 만들어서 그 위에 비트맵을 배치합니다.
한 뷰포트에 한 이미지만 배치할 수 있습니다. 두 번째 이미지를 배치하면 첫 번째 이미지가 삭제됩니다.
배경 비트맵은 구성을 위한 보조일 뿐, 렌더링 되는 장면에 속하지 않습니다. 모델의 뒤에 배경막으로 배치하려면, PictureFrame
명령 또는 ViewportProperties 명령의 배경_무늬
옵션을 참조하십시오.
옵션
배경 비트맵을 선택된 점에 정렬시킵니다.
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배경 비트맵의 기준점을 지정합니다.
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비트맵의 참조점을 지정합니다.
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구성평면상에서 비트맵 기준점과 일치하는 기준점을 지정합니다.
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구성평면상에서 비트맵 참조점과 일치하는 참조점을 지정합니다.
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주:배경 비트맵은 언제나 구성평면의 X축에 대하여 정렬되어 있습니다. 구성평면에 대하여 비트맵을 회전시키려면 비트맵을 비트맵 편집 프로그램에서 열어서 그 안에서 회전시키거나, 회전시킨 구성평면을 만들어서 그 위에 비트맵을 배치합니다.
예
배경 비트맵이 회색조로 표시됩니다.
아니요
배경 비트맵이 컬러로 표시됩니다.
비트맵을 외부 파일로 저장합니다.
예를 선택하면 픽셀값을 계산하도록 이미지에 필터가 실행되어 보다 부드러운 이미지를 만듭니다.
배경 이미지를 이동합니다.
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기준점을 지정합니다.
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이동의 기준점 새 위치를 지정합니다.
현재 뷰포트에 배경 이미지를 배치합니다.
주: 새 배경 비트맵을 배치하면 현재 비트맵이 교체됩니다.
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첫 번째 모서리를 지정합니다.
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두 번째 모서리를 지정하거나 길이를 입력합니다.
파일이 변경되면 저장된 비트맵을 업데이트합니다.
현재 뷰포트에서 배경 이미지를 제거합니다.
현재 뷰포트의 배경 이미지를 크기 조정합니다.
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크기 조정의 원점을 지정합니다.
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배율을 입력하거나, 두 개의 참조점을 지정합니다.
아니요를 선택하면 배경 비트맵이 숨김 설정됩니다.
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